인체에 유해한 가스로서 반도체 공정을 위해 필요한 경우가 많다.

- B, P, As : 불순물로 사용되는 가스

- F, Cl, Br : 식각(Etching)용으로 사용되는 가스

- CVD(화학적 기상증착)반응가스: 증착하고자 하는 박막의 종류에 따라서 할로겐화물, 수소화물, 유기금속화합물로 나눈다.

· CVD는 가스상의 화합물을 피퇴적 기판위에 주입시키고, 기상중 또는 기판 표면상에서 분해, 산화 등의 화학반응에 의해 박막을 형성하는 기술

반도체용 특수가스

반도체용 특수가스는 반도체 제조 및 연구용, LED, DISPLAY 제조용으로 사용되며 종류가 다양하며 초고순도가 요구됩니다.

당사는 주요가스별로 국내제조 및 수입을 통해철저한 품질관리를 거쳐 수요처에 안정적으로 공급하고잇습니다.

품명	용도	품명	용도
SiH₄	반도체, 태양광셀 생산	CO	반도체공정용
SiH₂Cl₂	반도체공정용	C₃F8	반도체공정용
Si₂H₂	반도체공정용	NF₃	반도체공정용
AsH₃	반도체공정용	HCI	기판 에칭용
B₂H₄	로켓용 연료	SiCl₄	반도체공정용
Cl₂	살균, 소독용	SF6	전기 절연용
BCI₃	반도체공정용	WF6	반도체공정용
BF₃	물질 합성용	N₂O	반도체공정용
PH₃	반도체공정용	CF₄	반도체공정용

CVD용 가스

NF₃ (암모니아)/CH₄ (메탄)/N₂ O(아산화질소)/WF6(육불화텅스텐)

실란계가스

SiH₄ (모노실란)/Si₂ H6 (디실란)/SiCl₄ (테트라클로로실란)/SiH₂ Cl₂ (디클로로실란)/SiF₄ (테트라플루오르실란)

도핑용가스

B₂ H6(디보란)PH₃ (포스핀)AsH₃ (아신)

에칭 · 크리닝용 가스

HCI (염화수소)/ Cl₂ (염소)/BCl₃ (삼염화붕소)/CC1₄ (사염화탄소)NF₃ (삼불화질소)/SF6 (육불화황)/CF₄ (사불화탄소)/
CHF₃ (삼불화메탄)/C₂ F6 (육불화 에탄)

기타특수가스

SH6 / CH4 / HC1 / Kr / Ne / Xe